中国能生产DUV光刻机，但暂时还无法生产最先进的EUV光刻机。中国的光刻机产业取得了一定的进展，例如上海微电子90nm的光刻机已经实现量产。此外，中国企业中芯国际也在加大对光刻机的投入和研发，力争自主研制更高性能的光刻机。以下是关于中国能造光刻机的一些内容：
1. 浸润式光刻机的创造者林本坚表示，中国已经拥有自主研发的7nm芯片，并且已经成功推进到5nm制程，这一点已经被美国承认，为中国芯片技术充满信心。
2. 中国的光刻机制造商上海微电子装备公司（SMEE）可以生产最精密的90nm制程的光刻机，相当于2004年最新款的Intel奔腾四处理器的水平。
3. 中国的半导体产业取得了巨大的发展，有着庞大的芯片制造需求。即使在2024年ASML的许可证过期后，其仍然可以继续向中国出货低端DUV光刻机，满足客户制造成熟芯片的需求。
4. 中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分拿正锋辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台使用紫外光技术的光刻机。
5. 中国的光刻机制造商需要加强自身的技术研发和创新能力，与国际巨头进行竞争和合作，才能制造出顶级的光刻机。
中国已经具备了一定的光刻机制造能力，并且在芯片技术领域取得了显著的进展。随着中国半导体产业的快速发展，相信中国的光刻机制造能力也将不断提升，有望实现更高水平的光刻机制造。
